弁理士紹介

竹村 綾子(東京オフィス勤務)

・2006年(平成18年) 早稲田大学理工学部環境資源工学科卒業
・2008年(平成20年) 早稲田大学大学院理工学研究科環境資源及材料理工学専攻修了
・2008年~2011年(平成20年~23年) 特許事務所勤務
・2010年(平成22年) 弁理士試験合格
・2011年(平成23年) 特許業務法人ワンディーIPパートナーズ入所
・同年         弁理士登録

制御、機械、電気、画像処理、車両用装置(空調装置、カーナビゲーションシステム等)、分析装置、建築材料、医療機器等。

田中 幸夫

・2006年(平成18年) 大阪府立大学大学院工学部マテリアル工学科卒業
・2008年(平成20年) 大阪府立大学大学院工学研究科物質・化学系専攻修了
・2008年~2011年(平成20年~23年) 日本電産株式会社勤務
・2011年~2018年(平成23年~30年) 特許事務所勤務
・2012年(平成24年) 弁理士登録
・2018年(平成30年) 特許業務法人ワンディーIPパートナーズ入所

液晶表示装置、有機EL表示装置、信号処理、光学フィルム、無機材料、樹脂材料、接着剤等。

越村 優一

・2007年(平成19年) 同志社大学工学部エネルギー機械工学科卒業
・2010年(平成22年) 同志社大学大学院工学研究科機械工学専攻修了
・2010年~2014年(平成22年~26年) 京セラドキュメントソリューションズ株式会社

・2014年~2019年(平成26年~令和元年) 特許事務所勤務
・2018年(平成30年) 弁理士登録
・2020年(令和2年) 特許業務法人ワンディーIPパートナーズ入所

電気、制御、機械、複合機、車両部品、製造装置、免制振装置等。

本田 恵

・1996年(平成8年) 大阪府立大学工学部化学工学科卒業
・1996年~2000年(平成8年~12年) 株式会社エルテック勤務
・2000年~2020年(平成12年~令和2年) 特許事務所勤務
・2014年(平成26年) 弁理士登録
・2017年(平成29年) 特定侵害訴訟代理登録
・2020年(令和2年) 特許業務法人ワンディIPパートナーズ入所

半導体製品、半導体材料、液晶表示装置、空調機器、燃料電池、ソフトウェア、触媒、ゲーム等。